Phương pháp gia nhiệt lại phản xạ- Sưởi ấm rãnh

Nguyên lý cơ bản của sưởi ấm rãnh

Sơ đồ này thể hiện trường hợp vật cần làm nóng nhỏ và bằng hoặc nhỏ hơn đường kính ngưng tụ (chiều rộng) của lò sưởi halogen.
Tạo một rãnh bằng phương pháp đơn giản và đặt vật cần làm nóng vào bên trong rãnh.

Vật được làm nóng trong quá trình gia nhiệt rãnh được làm nóng bởi ba phần tử.
1. Làm nóng trực tiếp từ nguồn nhiệt
2.Sưởi ấm do ánh sáng phản chiếu từ tường
3. Sưởi ấm bằng nhiệt bức xạ trên tường

Ngăn chặn tác động tiêu cực của các bản cập nhật

Khi sưởi ấm mở, không khí xung quanh vật được làm nóng cũng được làm nóng, giãn nở vì nhiệt và trở nên nhẹ hơn, tạo ra một dòng không khí đi lên.
Không khí ở nhiệt độ và áp suất bình thường chảy vào không gian đã trở nên loãng và áp suất thấp do không khí bốc lên.
Dòng không khí chảy này tiếp xúc với vật thể được làm nóng và làm mát nó, làm giảm hiệu suất sưởi ấm.
Hệ thống sưởi rãnh không tạo ra luồng không khí làm mát, tạo ra môi trường sưởi ấm hiệu quả.

Kiểm tra phương pháp gia nhiệt lại phản xạ – Sự khác biệt giữa gia nhiệt mặt phẳng và gia nhiệt rãnh

Bằng cách đưa khí trơ vào khung, có thể đạt được quá trình xử lý không oxy hóa hoặc oxy hóa thấp.
Phủ lên trên khung bằng kính thạch anh sẽ khiến khung hình trở nên hoàn hảo hơn.

So sánh chiếu xạ mở và sưởi ấm rãnh

Lấy HPH-60/F30/36V-450W làm ví dụ, được trang bị gương ngưng tụ Φ60 và có tiêu cự 30 mm, đường kính tiêu cự định mức là Φ8 nên phù hợp để gia nhiệt rãnh.
Thời gian cần thiết để đạt 800oC là trong vòng 20 giây khi gia nhiệt rãnh, nhưng điều này không thể đạt được ngay cả trong vòng 40 giây khi gia nhiệt mở.
Sử dụng đèn sưởi phản xạ ngược tạo ra sự khác biệt về độ giãn dài ở vùng nhiệt độ cao.